Il setup di fotolitografia è composto da un mask aligner Karl Süss MA6 che consente di allineare ed esporre maschere con risoluzione fino a 1 μm e dallo spin coater di fotoresist SUSS MicroTec LabSpin, con velocità fino a 5000 giri/min. Tale setup è inserito all’interno di una camera bianca così da migliorare la pulizia dell’intero processo di litografia. Questo mask aligner è ideale per l’ultilizzo con resist attivabili con la I-line (365 nm) di una lampada UV. È possibile utilizzare sia fotoresist positivi che negativi, con spessori fino a 30 μm.